イオンプレーティングとは真空槽内で加熱蒸発させた物質を基板上に堆積させる真空蒸着において、蒸発粒子をイオン化して、運動エネルギーを増加させて、基板との密着性、膜質、ガスとの反応性を高める方法です。イオン化には、直流法、高周波法、マイクロ波法、熱電子法、アーク放電法などがあります。
イオンプレーティングは近年発展したばかりの最新のメタライズ技術ですが、航空業界において広く使われています。飛行機やミサイル、人工衛星などは複雑かつ過酷な環境で置かれるため、それらの部品を壊さないようによくイオンプレーティングを使って保護します。
普通のメタライズ技術と比べて、イオンプレーティングは下記の特徴を持っています。
- 密着性が高いです。イオンプレーティングを施した部品を引張試験してみれば、いくら引っ張りしても、膜を落とさなくて、その密着性の高さがわかります。
- 膜の質が高いです。イオンプレーティングの膜は厚さが均一しており、気泡も穴もありません。
- 現在のメタライズ技術の多くは行う前に部品を綺麗にしないといけません。しかし、イオンプレーティング技術は部品を洗いながら、イオンプレーティングを行うので、作業を簡単化にしました。
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筆者：孔德珩
2020年1月10日